Orodha ya Bei Nafuu ya Gesi Maalumu za Uchina za Ugavi wa Elektroni/Semiconductor Daraja la 99.999% Purity Carbon Tetrafluoride/Tetrafluoromethane CF4 Bei ya Gesi

"Unyofu, Ubunifu, Ukaidi, na Ufanisi" inaweza kuwa dhana inayoendelea ya shirika letu kwa muda huo mrefu kuanzishwa kwa pamoja na wateja kwa usawa na faida ya pande zote kwa Bei za Nafuu za Gesi Maalumu za Ugavi wa China Daraja la 99.999% la Purity Carbon Bei ya Gesi ya Tetrafluoride/Tetrafluoromethane CF4, Kwa kuwa kampuni changa inayoongezeka, huenda tusifaulu zaidi, lakini tunajaribu tuwezavyo kuwa mshirika wako wa ajabu kwa ujumla.
"Uaminifu, Ubunifu, Ukali, na Ufanisi" inaweza kuwa dhana inayoendelea ya shirika letu kwa muda huo mrefu kuanzisha pamoja na wateja kwa usawa na kupata faida kwa pande zote.China CF4 na CF4 Gesi, "Unda Maadili, Kuhudumia Mteja!" ndio lengo tunalofuata. Tunatumai kwa dhati kwamba wateja wote wataanzisha ushirikiano wa muda mrefu na wenye manufaa kwa sisi.Kama ungependa kupata maelezo zaidi kuhusu kampuni yetu, Hakikisha kuwasiliana nasi sasa!

Vigezo vya Kiufundi

Tetrafluoride ya kaboni ni hidrokaboni iliyo na halojeni yenye fomula ya kemikali CF4. Inaweza kuzingatiwa kama hidrokaboni ya halojeni, methane ya halojeni, perfluorocarbon, au kama kiwanja isokaboni. Tetrafluoride ya kaboni ni gesi isiyo na rangi na isiyo na harufu, isiyoyeyuka katika maji, mumunyifu katika benzini na klorofomu. Imara chini ya joto la kawaida na shinikizo, epuka vioksidishaji vikali, vifaa vinavyoweza kuwaka au kuwaka. Gesi isiyoweza kuwaka, shinikizo la ndani la chombo litaongezeka wakati wa joto la juu, na kuna hatari ya kupasuka na mlipuko. Ni kemikali imara na haiwezi kuwaka. Reagent tu ya kioevu ya amonia-sodiamu inaweza kufanya kazi kwa joto la kawaida. Tetrafluoride ya kaboni ni gesi ambayo husababisha athari ya chafu. Ni imara sana, inaweza kukaa katika anga kwa muda mrefu, na ni gesi yenye nguvu sana ya chafu. Tetrafluoride ya kaboni hutumiwa katika mchakato wa etching ya plasma ya nyaya mbalimbali zilizounganishwa. Pia hutumika kama gesi ya leza, na hutumika katika vijokofu vya halijoto ya chini, vimumunyisho, vilainishi, vifaa vya kuhami joto, na vipozezi kwa vigunduzi vya infrared. Ni gesi inayotumika zaidi katika tasnia ya elektroniki ya plasma. Ni mchanganyiko wa gesi ya tetrafluoromethane yenye usafi wa hali ya juu na gesi ya tetrafluoromethane yenye usafi wa hali ya juu na oksijeni yenye usafi wa hali ya juu. Inaweza kutumika sana katika silicon, dioksidi ya silicon, nitridi ya silicon, na glasi ya phosphosilicate. Uchomaji wa nyenzo nyembamba za filamu kama vile tungsten na tungsten pia hutumiwa sana katika kusafisha uso wa vifaa vya elektroniki, utengenezaji wa seli za jua, teknolojia ya leza, majokofu ya kiwango cha chini cha joto, ukaguzi wa uvujaji, na sabuni katika utengenezaji wa saketi zilizochapishwa. Inatumika kama jokofu la kiwango cha chini cha joto na teknolojia ya uwekaji wa plasma kavu kwa saketi zilizojumuishwa. Tahadhari za kuhifadhi: Hifadhi kwenye ghala la gesi isiyoweza kuwaka, yenye baridi na hewa. Weka mbali na vyanzo vya moto na joto. Joto la kuhifadhi haipaswi kuzidi 30 ° C. Inapaswa kuhifadhiwa kando na vitu vinavyoweza kuwaka na vioksidishaji kwa urahisi (vinavyoweza kuwaka), na kuepuka hifadhi mchanganyiko. Sehemu ya kuhifadhi inapaswa kuwa na vifaa vya matibabu ya dharura ya kuvuja.

Maombi:

① Jokofu:

Tetrafluoromethane wakati mwingine hutumiwa kama jokofu la joto la chini.

② Kuchora:

Inatumika katika kutengeneza mikrofoni ya kielektroniki pekee au pamoja na oksijeni kama etchant ya plasma ya silicon, dioksidi ya silicon, na nitridi ya silicon.

Kifurushi cha kawaida:

Faida:

①Usafi wa hali ya juu, kituo kipya zaidi;

② ISO mtengenezaji wa cheti;

③ Uwasilishaji wa haraka;

④Mfumo wa uchambuzi wa mtandaoni kwa udhibiti wa ubora katika kila hatua;

⑤Mahitaji ya juu na mchakato wa uangalifu wa kushughulikia silinda kabla ya kujaza;